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場效應(yīng)管閾值電壓測試S系列數(shù)字源表

 
 
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發(fā)貨 湖北武漢江夏區(qū)付款后3天內(nèi)
品牌 普賽斯儀表
通信口 RS-232、GPIB及以太網(wǎng)
測試范圍 ±90uV-±300V/±30pA-±3A
測試精度 0.03%
更新 2024-12-25 16:04
手機(jī)號:18140663476
 
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武漢普賽斯儀表有限公司

普通會(huì)員第2年
資料通過認(rèn)證
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產(chǎn)品詳細(xì)

MOSFET(金屬—氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管)是  一種利用電場效應(yīng)來控制其電流大小的常見半導(dǎo)體  器 件,可 以 廣 泛 應(yīng) 用 在 模 擬 電 路 和 數(shù) 字 電 路 當(dāng) 中 。 MOSFET可以由硅制作,也可以由石墨烯,碳納米管  等材料制作,是材料及器件研究的熱點(diǎn)。主要參數(shù)有輸入/輸出特性曲線、閾值電壓 VGS(th)、漏電流IGSS、IDSS,擊穿電壓VDSS、低頻互導(dǎo)gm、輸出電阻RDS等。場效應(yīng)管閾值電壓測試S系列數(shù)字源表認(rèn)準(zhǔn)生產(chǎn)廠家武漢普賽斯儀表,詳詢一八一四零六六三四七六;


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        受器件結(jié)構(gòu)本身的影響,在實(shí)驗(yàn)室科研工作者或者測試工程師常見會(huì)碰到以下測試難題:

(1)由于MOSFET是多端口器件,所以需要多個(gè)測  量模塊協(xié)同測試,而且MOSFET動(dòng)態(tài)電流范圍大,測試   時(shí)需要量程范圍廣,測量模塊的量程需要可以自動(dòng)切  換; 

(2)柵氧的漏電與柵氧質(zhì)量關(guān)系極大,漏電增加到  一定程度即可構(gòu)成擊穿,導(dǎo)致器件失效,因此MOSFET     的漏電流越小越好,需要高精度的設(shè)備進(jìn)行測試; 

(3)隨著MOSFET特征尺寸越來越小,功率越來越   大,自加熱效應(yīng)成為影響其可靠性的重要因素,而脈沖測試可以減少自加熱效應(yīng),利用脈沖模式進(jìn)行MOSFET的I-V測試可以準(zhǔn)確評估、表征其特性;

(4)MOSFET的電容測試非常重要,且與其在高頻應(yīng)用有密切關(guān)系。不同頻率下C-V曲線不同,需要進(jìn)行多頻率、多電壓下的C-V測試,表征MOSFET的電容特性。


     使用普賽斯S系列高精度數(shù)字源表、P系列高精度   臺(tái)式脈沖源表對MOSFET常見參數(shù)進(jìn)行測試。


輸入/輸出特性測試

        MOSFET是用柵電壓控制源漏電流的器件,在某一固定漏源電壓下,可測得一條IDs~VGs關(guān)系曲線,對應(yīng)一組階梯漏源電壓可測得一簇直流輸入特性曲線。 MOSFET在某一固定的柵源電壓下所得IDS~VDS     關(guān)系即為直流輸出特性,對應(yīng)一組階梯柵源電壓可測 得一簇輸出特性曲線。 根據(jù)應(yīng)用場景的不同,MOSFET器件的功率規(guī)格   也不一致。針對1A以下的MOSFET器件,推薦2臺(tái)S系 列源表搭建測試方案,Z大電壓300V,Z大電流1A,     最小電流100pA,可以滿足小功率MOSFET測試的需求。

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        針對Z大電流為1A~10A的MOSFET功率器件,推  薦采用2臺(tái)P系列脈沖源表搭建測試方案,其Z大電壓     300V,Z大電流10A。

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    針對Z大電流為10A~100A的MOSFET功率器件,   推薦采用P系列脈沖源表+HCP搭建測試方案,Z大電流高達(dá)100A。

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閾值電壓VGS(th) 

     VGS(th)是指柵源電壓能使漏極開始有電流的VG   S 值;測試儀表推薦S系列源表。


漏電流測試 

     GSS(柵源漏電流)是指在特定的柵源電壓情況下  流過柵極的漏電流;IDSS(零柵壓漏極電流)是指在當(dāng)    VGS=0時(shí),在指定的VDS下的DS之間漏電流,測試時(shí)推   薦使用一臺(tái)普賽斯S系列或P系列源表;


耐壓測試

    VDSS(漏源擊穿電壓):是指在VGS=0的條件下,增  加漏源電壓過程中使ID開始劇增時(shí)的VDS值;   根據(jù)器件的規(guī)格不同,其耐壓指標(biāo)也不一致,測試  所需的儀表也不同,擊穿電壓在300V以下推薦使用S  系列臺(tái)式源表或P系列脈沖源表,其Z大電壓300V,擊穿電壓在300V以上的器件推薦使用E系列,Z大電壓3500V。

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C-V測試 

   C-V測量常用于定期監(jiān)控集成電路的制造工藝,通  過測量MOS電容高頻和低頻時(shí)的C-V曲線,可以得到   柵氧化層厚度tox、氧化層電荷和界面態(tài)密度Dit、平帶 電壓Vfb、硅襯底中的摻雜濃度等參數(shù)。  分別測試Ciss(輸入電容)、Coss(輸出  電容)以及Crss(反向傳輸電容)。


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